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资金流向历史统计
近5日内该股资金总体呈流入状态,高于行业平均水平,5日共流入14246.76万元。
近5日内该股资金总体呈流入状态,高于行业平均水平,5日共流入14246.76万元。
据统计,近10日内主力筹码很集中,呈高度控盘状态。
公司资料
| 公司名称: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 所属地域: 上海市 | |
| 所属行业: 电子 — 半导体及元件 | 主营业务: 对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。 | |
| 董事长: HUI WANG | 董秘: 罗明珠 | |
| 实控人: HUI WANG (持有盛美半导体设备(上海)股份有限公司股份比例: 4.96%) | ||
| 最终控制人: HUI WANG (持有盛美半导体设备(上海)股份有限公司股份比例: 4.96%) | ||
| 总股本: 4.80亿股 | 流通股本: 4.36亿股 | 总市值: 亿 |
| 公司简介: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司的主营业务是对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。公司的主要产品是前道半导体工艺设备、后道先进封装工艺设备、硅材料衬底制造工艺设备。公司具有“高新技术企业”资质,被评为国家级“专精特新”小巨人企业、全国工业和信息化系统先进集体,连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”,曾荣获首批“上海市企业重点实验室”,获得“上海市企业技术中心”、“上海市专精特新企业”、“上海市创新型企业总部”“上海市制造业单项冠军企业”和“浦东新区突出贡献企业”等荣誉,“SAPS兆声波清洗技术”荣获2020年度上海市科技进步奖一等奖,同年被评为上海市专利示范企业,2022年获浦东新区大企业开放创新中心(GOI)挂牌。 | ||
发行相关
| 最新进度: 注册生效 | ||
| 成立日期: 2005-05-17 | 发行数量: 4335.58万股 | 发行价格: 85.00元 |
| 上市日期: 2021-11-18 | 发行市盈率: 398.6700倍 | 实际募资: 36.85亿元 |
| 首日开盘价: 122.00元 | 发行中签率: 0.04% | 首日涨跌幅: 52.65% |
公司新闻
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公司公告
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- 盛美上海:关于完成董事会换届选举及聘任高级管 2025-11-19
- 盛美上海:关于使用部分募集资金向全资子公司增 2025-11-19
- 盛美上海:关于使用自有资金方式支付募投项目所 2025-11-19
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研究报告
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